規(guī)格級別 | 外觀顏色 | ||
該料用途 | |||
備注說明 |
性能項(xiàng)目 | 試驗(yàn)條件[狀態(tài)] | 測試方法 | 測試數(shù)據(jù) | 數(shù)據(jù)單位 | |
物理性能 | 密度 | ASTMD1505 | 0.918 | g/cm3 | |
物理性能 | 熔流率(熔體流動速率)(190°C/2.16kg) | ASTMD1238 | 1.0 | g/10min | |
薄膜 | 薄膜厚度-經(jīng)測試 | 50 | μm | ||
薄膜 | 割線模量2 | 2%正割,MD:50μm | ASTMD882 | 183 | MPa |
薄膜 | 割線模量2 | 2%正割,TD:50μm | ASTMD882 | 190 | MPa |
薄膜 | 抗張強(qiáng)度3 | MD:屈服,50μm | ASTMD882 | 11.0 | MPa |
薄膜 | 抗張強(qiáng)度3 | TD:屈服,50μm | ASTMD882 | 11.0 | MPa |
薄膜 | 抗張強(qiáng)度3 | MD:斷裂,50μm | ASTMD882 | 50.0 | MPa |
薄膜 | 抗張強(qiáng)度3 | TD:斷裂,50μm | ASTMD882 | 46.0 | MPa |
薄膜 | 伸長率3 | MD:斷裂,50μm | ASTMD882 | 790 | % |
薄膜 | 伸長率3 | TD:斷裂,50μm | ASTMD882 | 820 | % |
薄膜 | 落錘沖擊4 | ASTMD1709 | >1500 | g | |
薄膜 | 埃爾曼多夫抗撕強(qiáng)度 | MD:50μm | ASTMD1922 | 580 | g |
薄膜 | 埃爾曼多夫抗撕強(qiáng)度 | TD:50μm | ASTMD1922 | 660 | g |
薄膜 | 薄膜厚度-經(jīng)測試 | 50 | μm | ||
薄膜 | 割線模量2 | 2%正割,MD:50μm | ASTMD882 | 183 | MPa |
薄膜 | 割線模量2 | 2%正割,TD:50μm | ASTMD882 | 190 | MPa |
薄膜 | 抗張強(qiáng)度3 | MD:屈服,50μm | ASTMD882 | 11.0 | MPa |
薄膜 | 抗張強(qiáng)度3 | TD:屈服,50μm | ASTMD882 | 11.0 | MPa |
薄膜 | 抗張強(qiáng)度3 | MD:斷裂,50μm | ASTMD882 | 50.0 | MPa |
薄膜 | 抗張強(qiáng)度3 | TD:斷裂,50μm | ASTMD882 | 46.0 | MPa |
薄膜 | 伸長率3 | MD:斷裂,50μm | ASTMD882 | 790 | % |
薄膜 | 伸長率3 | TD:斷裂,50μm | ASTMD882 | 820 | % |
薄膜 | 落錘沖擊4 | ASTMD1709 | >1500 | g | |
薄膜 | 埃爾曼多夫抗撕強(qiáng)度 | MD:50μm | ASTMD1922 | 580 | g |
薄膜 | 埃爾曼多夫抗撕強(qiáng)度 | TD:50μm | ASTMD1922 | 660 | g |
光學(xué)性能 | 光澤度5(45°) | ASTMD2457 | 64 | ||
光學(xué)性能 | 霧度5(50.0μm) | ASTMD1003 | 11 | % |
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